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奈米微粒暴露改善技術探討ILOSH111-H601

奈米微粒暴露改善技術探討ILOSH111-H601

奈米微粒逸散研究發現,當模擬危害源位於氣櫃內部中央,可變風量(VAV)氣櫃面速度下降及拉門開度提高時,奈米微粒逸散情形增加,雖然濃度不高,但部分時間可測得較明顯逸散情形。氣簾式(AC)氣櫃拉門開度由...more

作業場所逸散奈米微粒重量濃度及特性量測 103-H321

作業場所逸散奈米微粒重量濃度及特性量測 103-H321

計畫已於實驗室,透過測量高溫爐出口端銀微粒的重量濃度與有效密度,比較SMPS-APM與PENS的測量結果。計畫也已前往奈米物質作業場所進行空氣中微粒的數目濃度、粒徑分布、肺泡區沉積表面積濃度即時監測,輔...more

特殊奈米微粒控制與防護技術探討 102藍H322

特殊奈米微粒控制與防護技術探討 102藍H322

探討是否可結合氣膠微粒質量分析儀及微粒電移動度粒徑掃描分析儀快速測量奈米微粒之粒徑及質量濃度。計畫確認APM的質量測量準確度,建議採用”固定轉速(改變電壓)”的操作方法可更有效率地測量微粒質量,也...more

勞動部及職業安全衛生研究所

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