表面科學與薄膜技術基礎

前言

第1章 真空物理基礎
1.1真空基礎知識
1.2氣體動力學理論
1.3真空獲得
1.4真空測量
1.5真空系統
1.6本章小結
習題
參考文獻

第2章 表面科學基礎
2.1表面和體材料
2.2表面重構
2.3表面結構缺陷
2.4表面張力和表面能
2.5表面吸附
2.6表面電子結構
2.7本章小結
習題
參考文獻

第3章 薄膜物理基礎
3.1薄膜生長模式
3.2形核的熱力學模型
3.3形核和生長的動力學過程
3.4團簇的聚結與耗盡
3.5形核與生長的實驗研究
3.6本章小結
習題
參考文獻

第4章 熱蒸發沉積
4.1蒸發的物理化學特性
4.2薄膜厚度均勻性和純度
4.3熱蒸發硬體
4.4熱蒸發技術的應用
4.5本章小結
習題
參考文獻

第5章 濺射鍍膜
5.1等離子體和湯森放電
5.2等離子體中的反應
5.3濺射物理
5.4濺射沉積薄膜過程
5.5本章小結
習題
參考文獻

第6章 化學氣相沉積
6.1反應類型
6.2CVD熱力學
6.3氣體輸運
6.4熱CVD工藝
6.5等離子體CVD工藝
6.6鐳射CVD工藝
6.7金屬有機CVD工藝
6.8本章小結
習題
參考文獻

第7章 薄膜結構
7.1薄膜結構演化
7.2熱蒸發沉積薄膜結構和形貌
7.3濺射鍍膜薄膜結構和形貌
7.4CVD薄膜結構和形貌
7.5本章小結
習題
參考文獻

第8章 現代表面分析技術
8.1X射線光電子能譜
8.2紫外光電子能譜
8.3X射線衍射和低能電子衍射
8.4掃描隧道顯微鏡和原子力顯微鏡
8.5振動譜
8.6本章小結
習題
參考文獻

第9章 薄膜材料
9.1金剛石薄膜
9.2超硬薄膜
9.3半導體薄膜
9.4磁性存儲薄膜
習題
參考文獻